- Uniwersytet Łódzki
- Wydział Chemii Uniwersytetu Łódzkiego
- Katedra Technologii i Chemii Materiałów
- Techniki eksperymentalne i aparatura
- Plazma RF
Plazma RF
Komora plazmowa Diener Zepto
Niskotemperaturowa plazma daje zróżnicowane możliwości modyfikowania powierzchni. Pozwala na precyzyjne czyszczenie zabrudzonych elementów - usuwanie zanieczyszczeń organicznych, aktywację plazmową powierzchni, wytrawianie podłoży m.in. krzemu czy tworzyw sztucznych (strukturyzacja powierzchni) oraz pokrywanie elementów związkami chemicznymi w celu modyfikacji i zmiany ich właściwości fizykochemicznych. Wytwarzanie m.in. warstw hydrofobowych oraz hydrofilowych
